长春厚孚技术有限公司
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| 系列 | 定位 | 典型应用 | 核心优势 |
|---|---|---|---|
| HTC-S | 研发平台 | 工艺开发、小样制备 | 轻量化设计，灵活适配 |
| HTC-M | 中试生产 | 厚膜材料、热管理片 | 等离子体均匀，工艺窗口宽 |
| HTC-G | 规模制造 | 大面积工业镀膜 | 沉积面积大，连续运行稳定 |
| 需求方向 | 推荐系列 | 说明 |
|---|---|---|
| 实验室工艺探索 | HTC-S | 配置灵活，响应快速 |
| 薄膜材料制备 | HTC-S / HTC-M | 根据尺寸与要求匹配 |
| 热管理用材料 | HTC-M | 均匀性良好，良率稳定 |
| 光学级厚膜 | HTC-M / HTC-G | 支持较大口径沉积 |
| 连续工业镀膜 | HTC-G | 运行稳定，维护简单 |
| 系统 | 特点 |
|---|---|
| 微波系统 | 能量耦合效率高，输出稳定 |
| 腔体设计 | 等离子体分布优化，沉积一致性好 |
| 真空系统 | 漏率控制严格，本底洁净度高 |
| 控制平台 | 工艺配方全流程管理，数据可追溯 |
| 安全机制 | 多重保护，运行状态实时监测 |
我们的设备适用于以下通用工业与材料加工领域：
我们支持根据客户具体需求进行灵活配置：
HOFUTECH高精度沉积控制设备，不仅是可靠的工艺装备，更是连接精密控制技术与工业镀膜需求之间的桥梁。
我们愿以扎实的控制能力与系统集成经验，助力科研机构与制造企业在超硬材料、功能薄膜等领域，实现从“实验开发”到“工业应用”的平稳过渡。
HOFUTECH
精准控制每一层沉积
技术赋能工业镀膜未来
