| 能力维度 | 技术指标 | 客户价值 |
|---|---|---|
| 高速响应 | 阶跃稳定时间 ≤100ms | 工艺切换无延迟,提升生产效率 |
| 精准控制 | 控制精度 ±0.6%~1.0% Set Point | 保障工艺一致性,降低不良率 |
| 重复稳定 | 重复精度 ±0.2% FS | 批次间高度一致,实验数据可信 |
| 抗温漂移 | 零点温漂 ≤0.02% FS/℃ | 宽温环境依然稳定,适用性更强 |
| 无超调 | 超调量 <1%,可配置为零 | 保护下游敏感设备,安全可靠 |
| 功能模块 | 技术说明 | 应用价值 |
|---|---|---|
| 自适应PID算法 | 根据工况动态调整控制参数 | 无需人工整定,适应复杂工艺变化 |
| 压力-流量解耦 | 解决气体管路中压力与流量的耦合干扰 | 双参数独立控制,系统更稳定 |
| 全温区补偿 | 多点温度校准,非线性校正算法 | -10℃~60℃保持高精度,无需频繁校准 |
| 多气体切换 | 预置10+种气体转换系数库 | 一键切换气体,无需重新标定 |
| 智能诊断 | 实时监测阀门老化、压力波动 | 提前预警,避免突发停机 |
| 数据追溯 | 校准参数与运行日志断电保存 | 满足合规审计与工艺回溯需求 |
| 参数 | 规格 |
|---|---|
| 控制周期 | 1ms~10ms(可配置) |
| 采样精度 | 24位ADC |
| 通讯协议 | RS485(Modbus RTU)标准,可选EtherCAT/PROFINET |
| 存储容量 | 64KB~512KB EEPROM |
| 工作温度 | -10℃~60℃ |
| 行业 | 核心价值 |
|---|---|
| 半导体制造 | 毫秒级响应 + 零漂移,保障晶圆工艺一致性 |
| 科研实验 | 高重复精度 + 数据可追溯,确保实验结论可信 |
| 氢能源 | 抗冲击算法 + 无超调,避免高压过冲风险 |
| 生物制药 | 稳定控制 + 合规数据存储,满足GMP审计要求 |
| 优势 | 说明 |
|---|---|
| 算法沉淀 | 多年流体控制行业经验,算法经大量工况验证 |
| 软硬协同 | 算法与硬件深度适配,发挥最佳性能 |
| 灵活定制 | 支持PID参数预调、特殊气体扩展、通讯协议定制 |
| 快速部署 | 标准化软件架构,即插即用,缩短调试周期 |
| 项目 | 参数 |
|---|---|
| 控制精度 | ±0.6%~1.0% Set Point |
| 重复精度 | ±0.2% FS |
| 响应时间 | ≤100ms |
| 零点温漂 | ≤0.02% FS/℃ |
| 超调量 | <1% |
| 通讯接口 | RS485 / EtherCAT / PROFINET |
| 采样分辨率 | 24位 |
HOFUTECH核心算法与嵌入式软件
以算法定义精度,用软件驱动控制——为精密流体控制注入智慧内核