MPCVD技术是一种成熟的工业薄膜沉积方法。我们的设备采用微波能量产生高密度等离子体,在真空环境下实现高质量薄膜材料的可控生长。
设备可满足以下工业需求:
我们提供三个设备系列,适应不同用户需求:
| 系列 | 适用场景 |
|---|---|
| R系列(研发型) | 实验室、高校、企业研发中心 |
| P系列(小批量生产型) | 定制化生产、柔性制造 |
| M系列(量产型) | 规模化生产,支持多台联机 |
| 参数 | 说明 |
|---|---|
| 微波功率 | 可定制范围广 |
| 沉积均匀性 | 大面积一致性良好 |
| 工艺重复性 | 批次间稳定 |
| 运行稳定性 | 支持长期连续工作 |
| 应用方向 | 产品示例 |
|---|---|
| 表面涂层 | 硬质保护层、耐磨涂层 |
| 热管理 | 散热片、导热组件 |
| 光学 | 红外窗口、光学保护膜 |
| 工业部件 | 精密机械零件涂层 |
| 消费品 | 装饰用金刚石薄膜 |
我们提供:
欢迎就MPCVD设备选型、工艺需求或产能建设进行咨询。